石墨烯薄膜沉积炉 连续CVD炉）

设备介绍：
    该设备为咸阳鸿峰窑炉设备有限公司自主设计的化学气相沉积炉。
设备特点:
（1）该设备可以实现单片沉积也可以实现连续沉积。
（2）该设备可以对通入的气体进行精确的控制，配有混气罐。
（3）该设备炉衬全部采用轻质耐火材料，采用真空浇筑技术，设备热效率高。
（4）该设备的使用温度一般不**1150度。
（5）该设备炉管采用高纯度定制石英管。
（6）该设备真空度可以抽至10E-4pa。
（7）该设备采用220V/380V的电压。
（8）该设备电热元件镶嵌在轻质耐火材料内部，结构合理。
（9）该设备为多点测温。 
（10）该设备作多种尺寸规模的沉积。